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l该设备是根据客户需求设计的一款立式单体磁控溅射镀膜设备。
l该设备结合机械、电气、控制、真空、加热、传动、离子清洗、蒸发、磁控溅射、材料、化工等技术发展出来的创新科技设备，适应于现代工业镀膜产业的要求，设备制备的膜层附着力强，膜层致密、均匀性好、成膜稳定、效率高、智能化、故障率低、易维护等特点。
l设备主要由真空腔体、工件传动机构、低真空泵组、高真空泵组、加热组件、离子源、磁控溅射系统、蒸发源、仪器仪表及控制系统组成。
产品应用/product application
主要应用于PET基材制备SiO2、NbOx、Si3N4、Cr、In、AF等膜层的镀膜设备。
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